白光干涉儀作為光學(xué)測(cè)量領(lǐng)域的重要工具，其光譜干涉模式基于光的干涉原理與光譜分析技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)物體表面形貌、薄膜厚度等參數(shù)的高精度測(cè)量。該模式利用白光作為光源，通過(guò)特殊的分光與干涉機(jī)制，將光學(xué)測(cè)量精度提升至納米級(jí)。

　　一、光譜干涉模式的基本原理

　　白光干涉儀的光譜干涉模式基于多色光干涉特性。白光作為復(fù)合光源，包含連續(xù)光譜成分。當(dāng)其經(jīng)過(guò)擴(kuò)束準(zhǔn)直后，通過(guò)分光棱鏡被分成兩束相干光：一束光經(jīng)被測(cè)表面反射，另一束光經(jīng)參考鏡反射。兩束反射光最終匯聚并發(fā)生干涉，在CCD相機(jī)感光面形成明暗相間的干涉條紋。由于白光光譜的連續(xù)性，干涉條紋的亮度與光程差直接相關(guān)，且僅在零光程差附近形成清晰的彩色條紋。通過(guò)分析干涉條紋的明暗度與位置變化，可解析出被測(cè)樣品的相對(duì)高度。

　　二、關(guān)鍵技術(shù)實(shí)現(xiàn)

　　1.零光程差定位：儀器通過(guò)垂直掃描被測(cè)樣品，記錄不同位置處的干涉條紋變化。當(dāng)光程差為零時(shí)，干涉條紋的對(duì)比度達(dá)到峰值，系統(tǒng)據(jù)此確定樣品表面的精確高度。

　　2.光譜分析：不同波長(zhǎng)的光在薄膜上形成的干涉條紋具有不同的間距和亮度分布。通過(guò)光譜儀分析干涉光的光譜分布，可同時(shí)計(jì)算薄膜的厚度與折射率。

　　3.高精度相位測(cè)量：結(jié)合相移干涉（PSI）技術(shù)，系統(tǒng)通過(guò)引入相移器改變干涉光的相位，測(cè)量不同相位下的干涉光強(qiáng)度，從而進(jìn)一步提升測(cè)量精度。

　　三、應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

　　該儀器的光譜干涉模式具有非接觸式測(cè)量、高精度、寬測(cè)量范圍等優(yōu)勢(shì)。其垂直掃描干涉測(cè)量模式（VSI）可覆蓋從光滑到適度粗糙的表面，提供納米級(jí)垂直分辨率；相移干涉測(cè)量模式（PSI）則適用于連續(xù)高度變化較小的微納結(jié)構(gòu)表面，測(cè)量精度可達(dá)納米級(jí)別。結(jié)合VSI與PSI的高分辨測(cè)量模式（VXI）更實(shí)現(xiàn)了測(cè)量精度與范圍的雙重突破。

　　四、白光干涉儀圖片展示

　　白光干涉儀的光譜干涉模式通過(guò)多色光干涉與光譜分析技術(shù)，為微觀形貌測(cè)量提供了高效、精準(zhǔn)的解決方案，在半導(dǎo)體制造、光學(xué)加工、微納材料研究等領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用。